薄金屬的高級光學建模，以提高散射模型的魯棒性和準確性
撰寫者：Carsten Hartig1，Adam M. Urbanowicz2，Dmitriy Likhachev1，Ines Altendorf1，Andreas Reichel1，Martin Weisheit1 |ASMC 2019，2019年5月1日
抽象的
生產控製中使用的大多數散射模型都假定膜堆中包含的材料的恒定光學特性。僅將維度參數視為自由度。該假設對模型的精度和準確性產生負麵影響（尤其是縮小臨界維度的趨勢）。在這項工作中，我們著重於後端應用中CU和TAN/TA光學性質的建模，並考慮CU光學性質修改在溝槽中和基板上的影響。當Cu在膠片堆中充當底物時，我們還考慮了CU透明度閾值。在超薄CU底物的情況下，模型輸出變得無效。這一事實經常反映在擬合的良好上。我們表明，CU的準確光學建模對於實現微電子生產中自動過程控製所需的散射模型質量至關重要。結果，我們獲得了與電氣數據的更好匹配。因此，可以在生產流程早期預測電性能。 The modeling methodology presented here can be applied for all technology nodes and also other thin metals such as Co and Ru.
關鍵字 - CU，CU透明度閾值，光學特性，薄金屬，光學建模，散射法，OCD
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