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高級機器學習生態係統以滿足HVM光學計量學要求

Authored by: Padraig Timoney, Roma Luthra, Alex Elia, Haibo Liu, Paul Isbester, Avi Levy, Michael Shifrin, Barak Bringoltz, Eylon Rabinovich, Ariel Broitman, Eitan Rothstein, Ran Yacoby, Ilya Rubinovich, YongHa Kim, Ofer Shlagman, Barak Ben-nahum,Marina Zolkin,Igor Turovets |SPIE 2020,2020年2月1日

抽象的
機器學習(ML)技術已成功部署以解決光學計量學挑戰
近年來的半導體行業。使用更高級的計算技術和算法,ML係統万博mantex体育入口
可以進一步改進以滿足大量製造(HVM)要求。在這項工作中,高級ML生態係統
是基於大數據架構實施的,以生成快速和用戶友好的ML預測模型
計量目的。使用此ML生態係統完成的申請工作和結果已揭示其能力
快速完善解決方案以預測外部參考數據並改善常規光學的吞吐量
臨界維度(OCD)計量學。解決的時間已得到顯著改善和人類運營時間
也大大減少了。顯示了線測量應用的前端和後端的結果,
與外部參考或常規OCD相比,證明良好的相關性和小錯誤
結果。從本ML生態係統中的增量重新訓練改善了與外部參考的相關性,多個
分析了重新訓練模型以了解重新培訓效果和相應的要求。質量指標(QM)
還顯示與監視食譜性能相關。它成功證明了這一點
可以輕鬆更新高級ML生態係統,簡化的ML模型以進行高靈敏度和過程開發
在HVM方案中的應用。
關鍵字:機器學習,光學臨界維度(OCD),大數據,大量製造(HVM),
增量再培訓,相關性,解決方案時間,質量度量(QM)

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