高級混合計量方法應用於納米印刷光刻
撰寫：Ilya Osherov A，Limor Issacharoff A，Oram Gedalia A，Koichi Wakamoto B，Matthew Sendelbach C，Masafumi Asano D |SPIE 2017，2017年2月1日
抽象的
納米印刷光刻（NIL）是該行業正在追求的一種替代光刻解決方案。一個
零特有的與計量相關的問題是殘留層厚度（RLT）的測量
這是監視和控製零過程以及隨後的圖案的關鍵。散射法用於
由於其能夠用高吞吐量測量曲線特征，因此測量RLT的能力。但是因為
散射法對與感興趣的參數，整個膜中的複雜幾何形狀無關的特征敏感
堆棧可以使測量具有挑戰性。減少這種複雜幾何形狀對該影響的新方法
因此，需要感興趣的測量參數。由於使用零來進行3DNAND開發，
在下麵具有複雜結構的RLT測量是必要的。本文描述了
一種新的混合計量方法，可以將這些複雜幾何形狀的關鍵信息與散射法相結合
測量以減少由於抵抗下方的層而對RLT測量的影響。通過減少這一點
降低了影響，散射測量測量噪聲和參數的互相關，從而獲得了更好的精度
和RLT測量的準確性。
關鍵字：零，納米板光刻，RLT，殘留層厚度，強迫症，散射法，混合度量，代理
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