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強迫症增強:納米片內間隔凹痕的光譜幹涉法實現和驗證

撰寫者:D。Schmidt,C。Durfee,S。Pancharatnam,M。Medikonda,A。Greene,J。Frougier,A。Cepler,G。Belkin,D。Shafir,R。Koret,R。Koret,R。Shtainman,I。Turovets,S。Wolfling|SPIE 2021,2021年2月1日

抽象的
在這項工作中,引入了多通道散射測量數據收集的新穎增強光譜幹涉法
並討論。光譜幹涉法技術通過提供絕對階段添加了獨特的光譜數據万博mantex体育入口
信息。這通過提高對弱目標參數的敏感性並減少來增強計量性能
參數相關。對於最關鍵的一項,證明了光譜幹涉量增強的OCD功能
以及挑戰到全麵的納米片設備製造的挑戰性應用:Sige納米片層的橫向蝕刻
形成內部間隔凹痕。內間隔器在通道期間保護通道免受源/排水區域的侵害
釋放並定義設備的門長。此外,提出了一種方法,可以可靠和
可再現的參考樣品,具有名義蝕刻的工程表特異性縮進變化
加工。此類樣本是評估最小破壞性參考的計量解決方案的理想候選者
計量成本。討論了兩種策略,即單個參數和特定的縮進監控,發現它
通過光譜幹涉法獲得的光譜信息的添加改善了兩個光學計量學
解決方案。除了改善與單個參數縮進監控參考的匹配外,優秀的表格特異性
縮進結果可以交付。
關鍵字:強迫症,光譜反射儀,光譜幹涉法,閘門全能,納米片FET,縮進,內間隔器

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