光譜幹涉法

光學臨界維度計量學已證明自己是半導體設備製造的推動者。該領域的當前工作馬是公認的正常和傾斜的入射光譜譜法和橢圓法（SR/SE）技術。

先進的過程開發趨勢對過程控製係統帶來了重大挑戰。垂直整合，新材料，持續擴展和變異性增加是增加複雜性的關鍵因素，並提供強大的計量解決方案 - 需要提高更好的控製。

為了滿足需求，NOVA引入了一種新的光學CD技術 - 光譜幹涉法（SI）。万博mantex体育入口

光譜幹涉法（SI）

使用SI技術，NO万博mantex体育入口VA OCD係統可以提取測量樣品的新屬性 - 完整的波前。使用現有的SR/SE方法無法訪問該屬性，可以在多個AOI和極化上提取。必須開發一組新的HW和算法來實現該技術。万博mantex体育入口

除當前的主力技術外，NOVA PRISM平台還實施了OCD測量的光譜幹涉儀。對於SI實施，標準的光路被幹涉光學路徑取代，其中包括參考鏡。參考鏡的光與樣品中的光結合並定向到光譜儀。光譜儀分別測量每個波長的強度，並通過抓住幹涉儀的幹擾模式。

光譜幹涉儀是針對Fab大量製造環境設計和實施的，並實現了複雜3D結構的結構和材料測量。

亮點和好處

• 全新平台
• 硬件和算法的協同作用
• 當前解決方案無法訪問的基本信息
• 高端計量學對弱參數和獨特的去相關功能敏感
• 關鍵步驟上與設備產量的增強相關性